台積電才喊貴 ASML估High NA EUV製晶片數月內見

中央訊息 （中央社安特衛普19日綜合外電報導）世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克今天說，預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。 路透社報導，ASML最大客戶台積電4月才表示，High NA EUV曝光機太過昂貴。這種機器每台價格最高可達4億美元（約新台幣126億6000萬元）。 不過，福克（Christophe Fouquet）今天在比利時的微電子研究中心（imec）主辦的一場會議上說，High NA EUV曝光機將降低最先進晶片的圖案化（patterning）成本，無論是邏輯晶片或記憶晶片。 他並表示：「接下來幾個月內，我們將見到首批在High NA系統上曝光（製造）的少數產品，無論是記憶體或邏輯應用。」（編譯： 張正芊 ）1150519 選擇與事實站在一起，您的每一份贊助，都是守護新聞自由的力量 下載中央社「一手新聞」APP，即時掌握最新消息 本網站之文字、圖片及影音，非經授權，不得轉載、公開播送或公開傳輸及利用。