インテグリス、JSR／InpriaとEUVリソグラフィ技術のクロスライセンス契約を発表

半導体業界向け先端材料および高純度ソリューションのグローバルリーダーである米インテグリスと、材料イノベーションのリーダーでありInpriaの親会社であるJSR株式会社は、次世代チップ製造に向けた極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術の進展を支援するための非独占的クロスライセンス契約を発表しました。

本契約に基づき、インテグリスおよびInpriaは、メタルオキサイドレジスト（MOR）に関する特許のクロスライセンスを行い、係争中の当事者系レビュー（IPR2025-00267）を終了させます。さらに、両社はレジスト設計、プリカーサー合成および開発に加え、MORの大量生産において不可欠な高純度ろ過技術および関連供給システムにおける協業の可能性を検討します。

JSRとInpriaが持つメタルオキサイドレジスト材料におけるリーダーシップと、インテグリスのプリカーサー、材料ハンドリング、および高純度ろ過技術に関する専門知識を組み合わせることで、両社はAI時代に向けた先進材料の適用拡大を目指します。

インテグリスのオリヴィエ・ブラシエSVPは、「本クロスライセンス契約は、エコシステム全体でイノベーションが進展していることを示すものであり、お客様が確信を持って次世代リソグラフィを導入できるよう支援するものです」と述べています。JSRの木村徹上席執行役員は、「両社のノウハウを掛け合わせることで、半導体材料のエコシステムにおける技術の適用範囲が拡大します」とコメントしています。