在人工智慧(AI)時代持續推升高頻寬記憶體(HBM)需求之際,英特爾(INTC-US)一項最新曝光的專利,揭示其正布局全新的HBM替代架構,希望突破現行HBM在封裝成本與擴充性上的限制。
根據《Tom’s Hardware》報導,獨立科技分析師Underfox公開的資訊指出,英特爾於2026年7月2日公開的一份專利申請,描述了一種名為Cross-Batch Memory(XBM)的新型超高頻寬記憶體架構。
該專利實際上早於2024年12月26日提出,其核心目標是在維持HBM4封裝尺寸的前提下,透過全新的記憶體製程與互連方式,降低封裝成本,同時改善製造良率。
目前HBM之所以能提供極高頻寬,主要依靠將多層DRAM晶片垂直堆疊,並利用穿矽通孔(TSV)與矽中介層,透過約1,024位元的超寬平行介面與GPU或AI加速器連接。
然而,這種設計雖然效能優異,卻也帶來昂貴的封裝成本與複雜布線需求,隨著AI晶片規模愈來愈大,「記憶體牆」已逐漸成為整體運算效能最大的瓶頸。
英特爾提出的XBM則改變了這套架構。
XBM的第一項重大變革來自於結構設計。傳統DRAM的記憶體單元建構於前段製程,也就是電晶體通常製作所在的基礎矽層。
XBM則改採薄膜電晶體,將1T1C(一個電晶體、一個電容)記憶體單元移至後段製程,亦即位於電晶體層上方的金屬配線與導通孔堆疊中。
將記憶體建構於後段製程,使英特爾能將晶粒劃分為大量可獨立定址的小型記憶體區塊;這也延續了英特爾近年推動的技術方向,即利用後段製程電晶體,將記憶體直接堆疊於邏輯電路之上。
第二項改變則在於介面設計。XBM不再採用HBM的超寬平行實體層介面,而是將資料序列化後,透過傳輸速率達32 GT/s的UCIe連線進行傳輸,再由基底晶粒負責序列化/反序列化處理,並將所有I/O訊號路由至運算晶粒。
改用標準化的Chiplet互連介面,使XBM成為真正以Chiplet為原生設計的架構;英特爾認為,相較於依賴矽中介層的HBM堆疊,這種設計可大幅簡化封裝流程並降低成本。
不過,其缺點在於32 GT/s已是目前UCIe規範所支援的最高傳輸速率,因此該介面從一開始便接近規格上限,後續可提升的效能空間相對有限。
英特爾同時也相當強調XBM的可修復性。基底晶粒內建專用備援通道、內建自我修復機制、解碼與除錯邏輯,以及四個由備援記憶體陣列組成的子通道,可作為上方各層記憶體晶粒發生缺陷時的可替換備援資源。
這種在封裝完成後仍能進行修復的設計,目的在於提升超高層數記憶體堆疊的整體良率。
這份專利申請有相當大的篇幅探討的並非記憶體單元本身,而是如何進行封裝與安裝。英特爾詳細介紹了Memory-on-Package(MoP)及「反向懸伸」等封裝結構,目標是降低記憶體堆疊的Z軸高度。作為比較,傳統MoP封裝通常會增加約300至350微米的高度。
此外,新設計也取消了過去為抑制封裝翹曲所需的補強框,並改由電壓調節器直接為DRAM供電。這些設計正是英特爾宣稱可實現「更小、更便宜封裝」的具體技術基礎。
不過分析稱,不應將XBM與ZAM(Z-Angle Memory)混為一談。ZAM是英特爾與軟銀(SoftBank)旗下SAIMEMORY共同開發的新一代記憶體架構,預計將於2026年VLSI Symposium發表。
ZAM的創新重點在於晶片接合技術,採用融合接合打造九層堆疊架構,層與層之間以厚度約3微米的超薄矽層相隔,而記憶體本體仍大致沿用傳統DRAM設計。
據報導,ZAM的目標是達到約HBM4兩倍的頻寬密度,並預計於2029年前後實現商業化。
相較之下,XBM則是英特爾獨立提出的專利,不僅重新設計DRAM電晶體本身的位置,也全面改變記憶體與運算晶片之間的互連介面。
若將兩項技術放在一起觀察,可以看出英特爾至少正同步推進兩條不同的新一代HBM技術路線;對於一家於1968年以記憶體業務起家的公司而言,這樣的策略並不令人意外。
不過,XBM目前仍停留在專利階段,英特爾尚未公布任何相關產品或產品路線圖,因此現階段更像是在展現技術布局與研發方向,而非即將上市的產品。
除此之外,UCIe介面已達現行規格的最高傳輸速率,採用後段製程電晶體的DRAM也尚未證明具備大規模量產的可行性;整體架構未來仍須證明,相較於HBM4E以及英特爾自家的ZAM技術路線,是否具備足夠的競爭優勢。
FACT BOX · 重點整理
- 來源:PR Times
- 分類:新品
- 相關組織:Intel / SoftBank / SAIMEMORY
- 原文日期:2024年12月26日 / 2026年7月2日
- 產品、服務:XBM (Cross-Batch Memory) / HBM4