NuFlare Technology (NFT) 將參加於4月9日至10日在Pacifico Yokohama Annex Hall（神奈川縣橫濱市）舉辦的「Photomask Japan 2026 技術展覽會 第32屆光罩技術展示會」。
本次展覽會將與關於光罩及次世代微影技術的國際研討會「Photomask Japan 2026」同期舉辦。
此次，NFT將展出適用於A14節點半導體製造光罩量產的多電子束光罩描繪機「MBM™-4000」，以及能在60分鐘內完成10/7nm至成熟節點半導體製造光罩的透過反射同時檢測的快速光罩檢測機「NPI-8000系列」，並介紹各產品的發展藍圖。
NFT同時擁有作為電子束光罩描繪機基礎的電子技術，以及作為光罩檢測機基礎的光學技術。今後，我們將持續發揮技術協同效應，邁向最尖端技術的開發。
舉辦期間 4月9日(四) 10:00～17:00，10日(五) 10:00～16:00 會場 Pacifico Yokohama Annex Hall 攤位號碼 31 展品 1. 多電子束光罩描繪機：MBM™-4000 2. 光罩檢測機：NPI-8000系列 (NPI-8000, 8000ML, 8000W) 3. 產品發展藍圖
相關網站 Photomask Japan 2026 | 技術展覽會 (日文)
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- 來源：PR TIMES
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