6月19日(金) AndTech「ナノインプリントによる微細構造形成技術と光学デバイスへの応用～ウエハレベルレンズ・偏光素子・ガラスナノインプリントと光電融合～」WEBセミナーを開講予定

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、「ナノインプリント」と「光学部材への応用」に関する講座を開講します。

ナノインプリント装置・プロセス技術から、光電融合パッケージへの応用まで最新の技術動向を解説します。

ナノインプリント技術は、レンズ・偏光子・光制御部材などの光学微細構造形成技術として注目されており、近年ではRoll to Rollによる大面積化や、ガラスナノインプリントによる高耐久光学素子への展開も進んでいます。

微細構造形成技術をテーマに、光学デバイスへの応用について解説します。

Live配信・WEBセミナー講習会 概要 ──────────────────

テーマ：ナノインプリントによる微細構造形成技術と光学デバイスへの応用～ウエハレベルレンズ・偏光素子・ガラスナノインプリントと光電融合～

開催日時：2026年06月19日(金) 13:00-17:35

参加費：55,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定

URL：https://andtech.co.jp/seminars/1f14d188-6c0b-67e4-92d7-064fb9a95405

WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）

セミナー講習会内容構成 ────────────

第1講：13:00-15:00（芝浦機械株式会社：小久保 氏） 「ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例」

第2講：15:10-16:25（産総研：穂苅 氏） 「ナノインプリントを用いた光学部材の研究開発」

第3講：16:35-17:35（日本板硝子株式会社：壹岐 氏） 「ゾルゲルガラスとガラスナノインプリントによる加工技術」

本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題 ───────────────────────

①ナノインプリント技術の基礎原理と特徴 ②ナノインプリント装置の設計と評価 ③偏光素子や調光ブラインドへの応用例 ④ゾルゲルガラスとガラスナノインプリントによる加工技術

本セミナーの受講形式 ─────────────

WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。 詳細は、お申し込み後お伝えいたします。

下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください） ──────────────────────────────

∽∽───────────────────────∽∽ 第1部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例 ∽∽───────────────────────∽∽

芝浦機械株式会社 常務執行役員 R&Dセンター センター長： 小久保 光典 氏

【講演主旨】 LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズの製作、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWire Grid Polarizer (ワイヤーグリッド偏光子)といった実際のデバイスに適用した発表事例を紹介します。

【プログラム】 1. 芝浦機械株式会社の紹介 2. ナノインプリントプロセス 2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴 2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例 2.3 ナノインプリント装置構成と特徴 3. ナノインプリント装置と転写事例の紹介 3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series 3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series 4. ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介 4.1 LED 4.1.1 プロセス説明 4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製 4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED 4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ） 4.2.1 プロセス説明 4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作 4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL 4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写） 4.3.1 プロセス説明 4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦 4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll