大立光電今天首度參加台北國際電腦展,展出兩大CPO解決方案,展現董事長林恩平力求轉型、以CPO積極搶攻AI商機的企圖心;儘管CPO零件製造難度極高,但林恩平鼓勵團隊「試錯」,挑戰高難度技術,才能建立進入門檻。大立光首度參與電腦展,低調與轉投資的先進光聯合展出,展出多通道微透鏡陣列(PMLA)及多通道光纖陣列,讓市場窺見大立光轉攻CPO的成果。近年因手機市場成長趨緩,大立光積極評估轉型,CPO被視為高潛力新方向,有望以精密光學元件供應商角色搶進AI數據中心供應鏈。不過,林恩平先前在法說會上表示,大立光聚焦的還不能稱為CPO,只是光纖陣列這一端,目前準備送樣取得客戶認證,距量產「還有很長的距離」。CPO以光通訊取代傳統銅線,大立光目前聚焦於該插座內的高精度光學零件製造。業界指出,CPO零件製造難度極高,且與過往擅長的塑膠鏡片不同,改用模造玻璃帶來新挑戰,良率挑戰很大。不過,大立光團隊指出,林恩平鼓勵員工挑戰高難度技術,主張在研發中經歷失敗才能孕育有價值的技術。目前CPO解決方案已有POC樣品,並啟動客戶洽談,展現切入新市場的彈性。
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- 來源:中央社 CNA
- 分類:Corporate Strategy
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