(中央社北京27日綜合外電報導)美國科技新聞媒體The Information今天報導,中國已開始生產自研的浸潤式深紫外光曝光機(DUV)。這項晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商艾司摩爾(ASML)主導。

The Information引述知情人士指出,預計這些DUV設備將於今年交付中國主要晶片製造商,包括中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。

主要數據 — KEY FIGURES

4.6%
ASML股價應聲下跌4.6%
4%
美國半導體公司應用材料(Applied Materials)下跌4%
4.3%
科林研發(Lam Research)下跌4.3%
3.5%
科磊(KLA)公司下跌3.5%

路透社報導,消息傳出後,ASML股價應聲下跌4.6%

根據彭博(Bloomberg News),美國半導體公司應用材料(Applied Materials)、科林研發(Lam Research)及科磊(KLA)公司分別下跌4%4.3%3.5%。(編譯: 陳正健 )1150727

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  • 來源:中央社 CNA
  • 分類:科技财经
  • 相關組織:ASML / 中芯国际 / 华虹半导体