〈聯電法說〉今年の資本支出を20億ドルに引き上げ シンガポールと台湾で二軌体制で増産

聯電 (2303-TW)(UMC-US) は本日（29日）法要会を開催し、執行長の王石氏が今年の資本支出を15億ドルから20億ドルに引き上げると発表しました。この資金は主に特殊プロセス、先端封裝、AI関連の設備投資に使用されます。また、取締役会は2026年から2027年にかけて段階的に投入するための約50億ドルの資本支出を承認しました。

王石氏は、同社の増産は段階的に行い、資本支出が顧客の需要と事業の進捗に合わせて行われるよう配慮していると強調しました。これにより、生産能力の過剰拡大を回避します。

聯電は本日、取締役会が段階的な増産計画を承認したことを発表しました。これにより、シンガポール工場のクリーンルーム設備を拡張するとともに、台湾の台南科学園区で新工場の外殼工事を開始します。この二軌体制の増産計画は、顧客の近中期的な需要に対応するとともに、AIやエッジコンピューティングといった高成長分野のビジネスチャンスを捉えるための長期的な生産体制を確立することを目的としています。

聯電は、この戦略により、将来の設備建設に必要な時間を大幅に短縮できるだけでなく、資本支出と顧客の長期的な約束を緊密に結びつけることができると見込んでいます。

会長の洪嘉聰氏は、生成式AIの台頭と急速な発展が技術産業の構造を根本から再編しており、高性能、高帯域幅、高度なシステム統合技術に対する市場需要を加速させていると述べました。聯電のこの増産計画は、スピード、柔軟性、資本規律を両立させる段階的戦略を通じて、市場需要を継続的に満たすことを目的としています。

洪嘉聰氏はさらに、シンガポールでは第4期（P4）工場にクリーンルームと設備を投資してシリコンフォトニクスの生産能力を拡大すると述べました。建物の外殼はすでに完成しているため、顧客の需要の増加に迅速かつ効率的に対応できると説明しました。台湾では、将来の第7期（P7）および第8期（P8）工場の拠点となる新工場を建設し、聯電と顧客が共同で長期的な製品ロードマップと技術開発を推進するための基盤を築きます。この段階的戦略により、聯電は厳格な資本規律を維持しつつ、前期の減価償却負担を低減し、AI主導の未来においてリーダーシップを保つことができます。

台南の新工場は、台灣を聯電のグローバル最先端製造および先端研究開発拠点としての地位を強化し、先端封裝分野での展開を拡大します。一方、シンガポールP4工場の拡張は、シンガポールを台灣以外の最大の生産拠点としての役割をさらに確固たるものにし、サプライチェーンのレジリエンスに必要な地理的多様性を実現するとともに、シリコンフォトニクスを含む先端技術の開発を推進します。

製品別では、シンガポールP4工場はシリコンフォトニクスの生産能力を拡大し、P3工場ではBCD電源管理とシリコンフォトニクスの生産能力を増強します。台南12A工場のP7、P8では先端封裝インフラを構築するとともに、カスタムメモリスタックおよび深溝掘電容器（DTC）ソリューションを導入します。一部の資本支出は8インチ生産能力の構築にも使用され、2027年末から2028年初頭にかけて量産立ち上げが開始され、効果は2028年から2029年にかけて徐々に現れると予想されています。