中國開始生產DUV微影設備 要擺脫設備卡脖子？

根據美國媒體《The Information》週一（27日）報導，中國已開始生產自研浸潤式深紫外光微影設備（DUV），這種晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商ASML主導。

根據《The Information》等外媒報導，一家位於上海、獲中國政府支持的企業，已開始生產自主研發的DUV微影設備，相關團隊納入宇量昇科技等新創公司人員。

消息人士稱，中國DUV主要使用國產零件，但部分關鍵零件仍來自日本，且性能和製造品質仍不如ASML產品。

按照規劃，該公司今年將生產5台DUV設備，明年把產量提高至20台。

知情人士透露，預計這些DUV設備將於今年交付中國主要晶片製造商，包括中芯國際（00981-HK）、華虹半導體及長鑫存儲。

美銀證券分析師Didier Scemama認為，中國本土設備目前對ASML構成的威脅仍然有限。即使中國明年成功生產20台國產DUV設備，對ASML銷售額造成的影響約14億歐元，僅占ASML預估整體營收2.4%。

摩根大通分析師Sandeep Deshpande表示，中國少量製造DUV設備，與在晶圓廠支援大規模量產，代表兩種截然不同的能力。中國設備能否形成實質競爭，仍須檢視良率、套刻精度與產能效率，以及經歷數千批晶圓生產後的可靠度。

美國早已禁止ASML對華出售EUV微影設備，中國晶圓廠僅能採購老舊DUV維持生產。

如今美國國會審議《匹配法案》，計劃進一步收緊DUV設備出口限制，禁止ASML為中國工廠提供設備維修、備件配套服務，中國產線面臨設備停擺風險。