美國再施壓ASML對中斷供 中國自製DUV微影機開始量產

荷蘭媒體NL Times 與 NU.nl 報導稱，美國政府擬施壓荷蘭，禁止ASML向中國銷售幾乎所有晶片製造設備，包括深紫外光（DUV）微影機。與此同時，中國加速推進微影設備國產化，上海宇量盛科技已於今年7月限量生產浸潤式DUV微影機。

美方此舉主要目的在阻礙中國人工智慧（AI）、超級電腦及軍事科技發展。此前荷蘭政府在美國施壓下，已禁止ASML向中國出口最先進的極紫外光（EUV）微影設備，自2019年起ASML便未再向中國出貨EUV設備，部分先進DUV微影機同樣受到出口限制。

如今限制可能進一步擴大。美國國會正審議跨黨派《硬技術管制多邊協調法案》（MATCH Act），要求盟國與美國出口管制政策同步。

一旦法案通過，ASML不僅可能無法向中國銷售DUV微影設備，連已交付設備的維護與保養也將遭禁止；若荷蘭拒絕執行，美國可能祭出制裁。由於ASML高度依賴美國供應鏈，美方也曾以中斷供應施壓。

荷蘭官員目前正在華盛頓積極遊說，希望刪除相關條款，但法案獲得民主、共和兩黨支持，並預計納入幾乎必定通過的國防預算案，因此翻轉局勢的機會有限。

值得注意的是，法案對美國企業保留較大空間。中國先前發現，透過先進蝕刻技術搭配DUV微影機，仍能生產通常需要EUV設備才能製造的先進晶片。

美國雖在2024年對相關蝕刻設備祭出部分限制，但最終版MATCH法案已刪除限制美企向中國廣泛銷售先進蝕刻機的禁令，對ASML的DUV限制卻仍保留。

面對設備斷供及維修中斷風險，中國半導體產業也加快自主化腳步。上海宇量盛科技已於7月限量生產浸潤式DUV微影機，預計年底前交付5套系統，並以2027年前生產約20台為目標。

目前中芯國際( 00981-HK ) ）、長鑫儲存（CXMT）及華虹半導體等中國晶片業者都已列入客戶名單。

分析指出，若美方禁令沒有立即實施，對中國未來取得DUV設備的影響可能有限，中國若能爭取足夠時間，有機會逐步實現DUV領域自主化；但若禁令迅速落實，短期內仍將對高度依賴ASML設備的中國晶片業者帶來不小的過渡挑戰。