應材攜手鎧俠 共同推進新一代記憶體技術發展

應用材料(AMAT-US)今(30)日宣布，全球快閃記憶體與固態硬碟(SSD)領導廠鎧俠株式會社(KIOXIA Corporation)將加入應材位於矽谷的設備與製程創新暨商業化(Equipment and Process Innovation and Commercialization, EPIC)中心，成為共同推進新一代記憶體技術發展的創新夥伴。

應材指出，雙方將於 EPIC 中心合作開發先進記憶體單元與結構、多晶片堆疊架構，以及全新的材料工程技術，以提升 AI 時代所需的記憶體密度與效能。

應用材料總裁暨執行長蓋瑞．迪克森(Gary Dickerson)表示，AI 基礎設施需要具備更高密度、更大頻寬與更佳能源效率的記憶體解決方案。透過在 EPIC 中心結合鎧俠深厚的記憶體技術專長，以及應材的材料工程創新能力，我們建立強大的合作夥伴關係，開創下一代記憶體技術的更多可能。

鎧俠社長暨執行長太田裕雄(Hiroo Ota)表示，鎧俠始終堅信記憶體技術的發展潛力取決於持續突破材料與製程創新的界限。雙方合作展現共同推動記憶體創新的承諾，期待在 EPIC 中心合作，攜手實現先進技術突破。

透過 EPIC 中心的合作，應材與鎧俠將共同推動研發計畫，以因應新一代記憶體創新所面臨的關鍵挑戰，重點領域包括先進記憶體單元與結構開發、新一代記憶體多晶片堆疊技術、堆疊式記憶體先進封裝技術以及材料工程創新。

應用材料公司半導體產品事業群總裁帕布‧若傑(Prabu Raja)表示，記憶體是 AI 創新藍圖的核心，而在提升記憶體密度的同時兼顧成本與技術複雜度，必須仰賴材料、設備與製程技術的持續突破。我們期待與鎧俠在 EPIC 中心展開深度協同創新，驅動 AI 記憶體技術發展。

鎧俠先進記憶體開發總經理 Minori Kajimoto 表示，與應用材料在 EPIC 中心的合作，讓公司能在獨特的環境中，共同克服新一代記憶體最艱鉅的挑戰。透過鎧俠與應用材料公司的頂尖創新人才並肩合作，期望加速記憶體與封裝技術突破的商業化，為 AI 運算實現更高層次的整合與效能。