AI需要の増加に伴い、全球微影設備龍頭のASMLは15日2026年第二季財報を発表。營收と毛利率はともに会社の予測を上回り、今後の擴產計畫も発表された。ASMLは、AI需要の増加により先進ロジックとメモリチップの需要が成長しているため、2027年までにLow NA EUVと浸潤式DUVの生産能力を30%拡大する計画を発表。さらに、2028年までにさらに30%の生産能力を増加させる可能性を検討している。ASMLの第二季の売上高は93.26億ユーロで、前季の87.67億ユーロから6.4%増加。毛利率は53%から54%に上昇し、純利益は29.18億ユーロ、1株当たり利益は7.59ユーロとなった。第二季には86台の新しい微影設備を販売し、前季の67台を上回った。Installed Base Management(累積装機管理)業務の売上高は24.88億ユーロから27.62億ユーロに増加し、全体的な利益が予想を上回った。ASMLのChristophe Fouquet執行長は、「第二季の総売上高は93億ユーロ、毛利率は54%で、ともに指導を上回った。これは販売と累積装機管理収益が予想を上回ったためです」と述べた。AI需要の増加により設備投資が増加し、ASMLはEUVとDUVの同時擴產を発表。Christophe Fouquetは、AI関連投資と技術開発が先進ロジックとストレージチップの需要を成長させ、半導体産業の長期成長を強化していると述べた。顧客が生産能力を拡大するため、関連投資計画が設備注文に変わり、会社は市場需要に対する見通しを高めている。彼は、今年上半期の市場注文が依然として強力であるため、2026年のLow NA EUV微影設備の年産能力約65台を2027年30%増加させ、2028年にさらに30%増加する可能性を検討していると述べた。同時に、2026年の浸潤式DUV微影設備の生産能力約130台も2027年30%増加させ、2028年のさらに擴產の可能性を検討している。さらに、会社は設備アップグレード製品とサービスの組み合わせを拡大し、顧客の今後の需要に応える予定である。この計画は、ASMLがAI基盤投資に対する長期的な信頼を反映している。市場は一般的に、全球の晶圓代工とメモリ大手が先進プロセスと高頻帯域メモリ(HBM)の生産能力を拡大していると考えられており、ASMLは全球唯一のEUV微影設備供給者であるため、その生産計画は常に全球半導体資本支出と景気の重要な先行指標と見なされてきた。今回のEUVとDUV設備の同時擴產計画は、先進プロセスと成熟プロセスの需要がともにAIブームの恩恵を受けることを意味している。第三四半期の展望では、ASMLは第三四半期の売上高を110億から120億ユーロの間と予測し、毛利率は55%から57%に上昇すると予想している。研究開発費は約12億ユーロ、販売および管理費用(SG&A)は約4億ユーロとなる。全年の財政見通しは変わらず、会社は2026年の全年売上高を430億から450億ユーロの間と予測し、毛利率は約54%から56%となる。Christophe Fouquetは、ASMLは2027年6月にCapital Markets Dayを開催し、市場と技術の最新動向に基づいて、中長期の市場見通しを更新する予定であると述べた。財務報告書と生産計画のほか、ASMLはHigh NA EUV技術が正式に量産段階に入ったことも発表した。ASMLによると、Intel FoundryはASML EXE High NA EUV設備をIntel Core Ultra Series 3プロセッサーの一部の量産プロセスに導入した。同時に、Intel 18A特定プロセス層もアメリカオレゴン州でHigh NA EUVの二重検証を完了し、製品の良率は現在のNXEプラットフォームの水準に達し、顧客に出荷を開始した。双方は引き続き協力し、High NA EUVを将来のプロセスノードに導入するため、顧客の需要に応える予定である。さらに、ASMLは第二四半期に2026年から2028年の株買い戻し計画に基づき、約11億ユーロの自社株を買い戻し、8月5日に1株当たり1.88ユーロの中間配当金を支払うことを発表した。

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  • 出典:PR Times
  • 分類:ニュース
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