跳槽履歷竟附上企業機密！竊取「影像感測器」技術投靠中國，SK海力士前員工二審宣判

韓國半導體巨頭SK海力士（SK Hynix）一名前金姓員工，因涉嫌將公司核心CMOS影像感測器（CIS）技術資料與商業機密洩漏給中國企業，經上訴後，首爾高等法院二審宣判、裁定駁回上訴，維持一審有期徒刑1年6個月（18個月）的原判。

韓聯社9日報導，首爾高等法院刑事第10-1庭近日對涉嫌違反《產業技術保護法》、《防止不正當競爭及商業秘密保護法》以及業務背信罪的SK海力士前員工金某進行二審宣判。法院認定金某洩漏商業機密罪名成立，維持判處1年6個月有期徒刑。

調查指出，金某於2022年在SK海力士中國分公司任職期間，收到中國華為（Huawei）旗下晶片設計公司海思技術（HiSilicon）等企業的挖角提議。金某為了編寫求職履歷，違反SK海力士嚴格的內部資安規定，從公司文件管理系統中將大量涉及CMOS影像感測器（CIS）的尖端技術與商業機密資料列印並拍照。

金某隨後直接將部分機密內容引用於提交給中國企業的求職履歷中，導致公司核心技術外泄。CMOS影像感測器是智慧型手機相機與筆電攝影機運算影像的核心晶片，在南韓被列為重點保護的國家產業技術。

在一審訴訟期間，被告金某除CIS技術外，亦被控洩漏用於高頻寬記憶體（HBM）的「混合鍵合」（Hybrid Bonding）技術。不過一審法院認為，混合鍵合技術在案發時尚未被南韓產業通商資源部正式指定為國家尖端技術，因此該部分宣告無罪，僅就洩漏CIS商業機密部分判處18個月徒刑；二審首爾高等法院亦認同此一判決。

首爾高等法院在說明量刑理由時強調：「被告所洩漏的商業機密，是受害企業投入巨額資源與多年努力才取得的成果。若對此類侵權行為從輕處罰，不僅會削弱國內企業投入技術研發的動力，更會讓海外競爭對手以人才引進為藉口，輕易奪取國內企業刻苦研發的技術成果。」

合議庭補充指出，鑑於被告金某已承認所有犯罪指控，且遭洩漏的大部分商業機密資料已被南韓當局與公司及時追回，未造成更進一步的擴散，因此將此視為有利的量刑考量因素，決定維持原判，不再加重刑罰。